特殊氣體

商品名稱:

特殊氣體

詳細介紹:

特殊氣體是一翻譯自國外之氣體類別，在國內法規上並無此名稱，但在企業界，由於其許多技術與原料均來自國外，故亦沿用此名稱，其所包含之氣體均是一般較不常見，或等級較高之氣體，尤以電子廠使用者居多。

惰性氣體：He 、SF6 、CO2 、CF4 、C2 F6 、C4 F8 、CH3F
易燃性氣體：SiH4 、B2 H6 、PH3 、SiH2 Cl2 、NH3 、CH4 、CO
腐蝕性氣體：Cl2 、F2 、HCl 、HBr 、WF6 、NH3 、 NF3 、BCl3 、SiF4 、AsH3 、ClF3 、N2 O 、SiCl4、AsCl3 、BF3

【以上只是概略的分法，實際上有些氣體是兼具燃燒性 及腐蝕性的。除了是屬於惰性氣體之外，幾乎都是毒 性氣體。而像SiH4、B2H6、PH3這些則屬於自燃性氣體 (Pyropholic)，即使是在很低的濃度下，一接觸到大氣，立刻會產生燃燒現象。】

　　　　　　　　　　　　　　　　　　 半導體製程使用之特殊氣體

製程名稱

使用氣體

氧化(Oxidation)

SiH4 、Si2 H6 、ClF3 、PH3 、SiH2 Cl

擴散(Diffusion)

AsH3 、AsCl3 、PH3 、PCl3 、POCl3 、B2 H6 、 BCl3 、BBr3 、SiCl4 、SiH2 Cl2 、NH3

磊晶(Epitaxy)

SiH4 、SiHCl3 、SiH2 Cl2 、SiCl4 、AsH3 、AsCl3 、 PH3 、B3 H6

化學氣相沈積 (Chemical Vapor 
Deposition)

SiH4 、SiHCl3 、SiH2 Cl2 、NF3 、CF4 、CHF3 、 C2 F6 、PH3 、B2 H6 、NH3 、SiF4 、He

濺鍍(Sputtering)

NH3

離子植入(Implant)

H3 、PF3 、PF5 、SiF4 、AsH3 、B2 H6 、BF3 、 BCl3

蝕刻(Etching)

HF 、HCl 、HBr 、CF4 、CHF3 、CClF3 、PH3 、 B2 H6 、SiH4 、C3 F8 、SiF4 、SF6 、CBrF3 、C2 ClF5 、 Cl2 、PH5 、CClF2 、C2 ClF4 、CCl4 、C3 H8 、 CH4 NF3

去光阻(Dephotoresist)

CF4

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